Für Anwendungen wie Femtosekundenlaser und Strömungsfeldanalyse hat BOJIONG speziell einen Ultrahochgeschwindigkeits-Wellenfrontanalysator entwickelt, der Interferenzen in der hinteren Brennebene durchführt. Es stellt geringe Anforderungen an die Kohärenz der Lichtquelle und erfordert keine Phasenverschiebung. Zur Durchführung interferometrischer Messungen können gewöhnliche bildgebende Systeme eingesetzt werden. Das Gerät zeichnet sich durch extrem hohe Vibrationsfestigkeit, ultrahohe Stabilität, ultraschnelle Bildgebungsfähigkeiten und die Fähigkeit aus, Präzisionsmessungen im Nanobereich zu erreichen, ohne dass eine Vibrationsisolierung erforderlich ist.
Produktname |
Ultraschneller Wellenfrontanalysator |
Wellenlängenbereich |
400 nm ~ 1100 nm |
Zielgröße |
10,24 mm × 10,24 mm |
Räumliche Auflösung |
24,4 μm |
Abtastauflösung |
420×420 (176400 Pixel) |
Phasenauflösung |
<2nmRMS |
Absolute Genauigkeit |
10 nmRMS |
Dynamikbereich |
132 μm (210 λ) |
Abtastrate |
107fps |
Verarbeitungsgeschwindigkeit in Echtzeit |
10 Hz (volle Auflösung) |
Oberflächentyp |
Unterstützt verzögerte Stapelverarbeitung |
Abmessungen |
HACKEN |
Gewicht |
56,5 mm × 43 mm × 41,5 mm |
Wellenlängenbereich |
ca. 120g |
◆Sampling-Bildrate bis zu 107 fps
◆Breites Spektrum im 400-nm-1100-nm-Band
◆Ultrahohe Auflösung von 420×420 (176400) Phasenpunkten
◆Einkanalige Lichtselbstinterferenz, kein Referenzlicht erforderlich
◆2 nm RMS hohe Phasenauflösung
◆Extrem starke Antivibrationsleistung, keine Notwendigkeit einer optischen Vibrationsisolierung
◆Genau wie bei der Bildgebung, einfacher und schneller Aufbau des optischen Pfades
◆Unterstützt kollimierte Strahlen und große NA-konvergierte Strahlen
Dieser BOJIONG Ultra-Hochgeschwindigkeits-Wellenfrontanalysator wird zur Erkennung der Waferoberflächenrauheit, zur Messung der Mikromorphologie von Silizium- und Glassubstraten, zur aerodynamischen Optik, zum Hochgeschwindigkeitsströmungsfeld und zur Messung der Gasplasmadichte verwendet
Laserstrahl-Wellenfronterkennung |
Optische Messung der planaren Oberflächenform |
Beispiel für die Messung der Waferoberflächenrauheit |
Beispiel für die Messung eines rekonstruierten Wellenfrontdiagramms |
Optischer Pfad zur Messung der Gasplasmadichte |
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Der BOJIONG Ultra-Hochgeschwindigkeits-Wellenfrontanalysator wurde von einem Team von Professoren der Zhejiang-Universität und der Nanyang Technological University in Singapur entwickelt. Mit inländischer patentierter Technologie kombiniert er Beugung und Interferenz, um eine gemeinsame Vierwellen-Transversal-Scherinterferenz mit überlegener Erkennungsempfindlichkeit und Anti zu erreichen -Vibrationsleistung und kann dynamische Echtzeit- und Hochgeschwindigkeitsinterferometrie ohne Vibrationsisolierung realisieren. Die Echtzeitmessung zeigt eine Bildrate von mehr als 10 Bildern. Gleichzeitig verfügt der FIS4-Sensor über eine ultrahohe Phasenauflösung von 512 x 512 (260.000 Phasenpunkte), das Messband deckt 200 nm bis 15 μm ab, die Messempfindlichkeit erreicht 2 nm und die Messwiederholgenauigkeit ist besser als 1/1000 λ ( RMS). Es kann zur Analyse der Laserstrahlqualität, zur Erkennung von Plasmaströmungsfeldern, zur Echtzeitmessung der Verteilung von Hochgeschwindigkeitsströmungsfeldern, zur Bewertung der Bildqualität optischer Systeme, zur mikroskopischen Profilmessung und zur quantitativen Phasenbildgebung biologischer Zellen verwendet werden.
FIS4 Technische Parameter jeder Produktserie |
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Produkt |
FIS4-UV |
FIS4-HR |
FIS4-UHR |
FIS4-HS |
FIS4-Zelle |
FIS4-NIR |
Wellenlängenbereich |
200–450 nm |
400–1100 nm |
400–1100 nm |
400–1100 nm |
400–1100 nm |
900–1200 nm |
Zielgröße mm² |
13,3×13,3 |
7,07×7,07 |
13,3×13,3 |
10,24×10,24 |
7,07×7,07 |
13,3×13,3 |
Räumliche Auflösung |
26μm |
23,6μm |
26μm |
24,4 μm |
23,6μm |
26μm |
Bildpixel |
- |
2048×2048 |
- |
- |
2048×2048 |
- |
Auflösung der Phasenausgabe |
512×512 (262144 Pixel) |
300×300 (90000 Pixel) |
512×512 (262144 Pixel) |
420×420 (176400 Pixel) |
300×300 (90000 Pixel) |
512×512 (262144 Pixel) |
Phasenauflösung |
<2nmRMS |
<2nmRMS |
<2nmRMS |
<2nmRMS |
<2nmRMS |
<2nmRMS |
Absolute Genauigkeit |
10 nmRMS |
10 nmRMS |
15 nmRMS |
10 nmRMS |
10 nmRMS |
15 nmRMS |
Dynamikbereich |
90μm (256 Min.) |
110μm (150 Min.) |
162μm (256 Min.) |
132μm (210 Min.) |
110μm (150 Min.) |
270μm (256 Min.) |
Abtastrate |
32fps |
24fps |
45fps |
107fps |
24fps |
45fps |
Verarbeitungsgeschwindigkeit in Echtzeit |
10Hz (Komplettlösung) |
10Hz (Komplettlösung) |
10Hz (Komplettlösung) |
10Hz (Volle Auflösung) Unterstützt verzögerte Stapelverarbeitung |
10Hz (Komplettlösung) |
10Hz (Komplettlösung) |
Oberflächentyp |
USB3.0 |
HACKEN |
USB3.0 |
HACKEN |
HACKEN |
USB3.0 |
Externe Schnittstelle |
- |
- |
- |
- |
C-Anschluss |
- |
Größe mm² |
70x46,5x68,5 |
56,5x43x41,5 |
70x46,5x68,5 |
56,5x43x41,5 |
56,5x43x41,5 |
70x46,5x68,5 |
Gewicht |
ca. 240g |
ca. 120g |
ca. 240g |
ca. 120g |
ca. 120g |
ca. 240g |
Adresse
Nr. 578 Yingkou Road, Bezirk Yangpu, Shanghai, China
Tel