Bojiong (Shanghai) Precision Machinery Technology Co., Ltd.
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FIS4 Ultraviolett-Wellenfrontsensor 200-400 nm

FIS4 Ultraviolett-Wellenfrontsensor 200-400 nm

Bojiong ist ein führender Großhandel und Lieferant von ultravioletten Wellenfrontsensoren auf dem chinesischen Markt, die sich auf die Forschung, Entwicklung und Förderung von hochwertigen optischen Inspektionsgeräten spezialisiert haben. Unser FIS4 Ultraviolet Wavefront Sensor 200-400 Nm ist derzeit auf Lager und kann so angepasst werden, dass die individuellen Kundenbedürfnisse gerecht werden und ein sehr reaktionsfreudiges Serviceerlebnis bieten. Wir halten einen zutiefst kollaborativen Ansatz bei und bieten wettbewerbsfähige Preise an, um den Kunden vollständige, kostengünstige Lösungen zu bieten. Wir freuen uns auf eine langfristige, stabile Partnerschaft und ein gemeinsames Wachstum in China.

FIS4 Ultraviolett-Wellenfrontsensor 200-400 nm


DerBojiongFIS4 UV Wavefront Sensor 200-400nm ist ein spezialisiertes Instrument für hochpräzise Messungen in den 200–400 nm UV- und tiefen UV-Bändern. Unter Verwendung eines UV-verbesserten Detektionsmoduls und der UV-resistenten Optik hält der Sensor eine ultrahoche räumliche Auflösung von 512 × 512 und besser als 2nm RMS-Phasenmessgenauigkeit selbst bei kurzen Wellenlängen. Verwendung eines proprietären zufällig codierten Gitter- und Hochleistungsrekonstruktionsalgorithmus, derFIS4 UV -Wellenfrontsensorbietet überlegene Interferenzimmunität, präzise Messleistung und breite industrielle Kompatibilität und ermöglicht eine stabile Anwendung in einer Vielzahl komplexer Szenarien.

 

BojiongFIS4 UV Wavefront Sensor 200-400nm Einführung

TErBojiong  FIS4 Ultraviolett-Wellenfrontsensor 200-400 nm ist die neue Generation von hochpräzisen optischen Inspektionsgeräten unseres Unternehmens. Es entspricht ISO 9001 Quality Management System Standards und wird vom China Institute of Metrology (NIM) zertifiziert. Es kommt mit einer einjährigen Qualitätsgarantie. Der FIS4 UV -WellenfrontsensorVerwendet eine einzigartige UV Common-Path-Interferometerstruktur und ein hochdynamisches optisches Design, was zu einer hervorragenden Vibrationsbeständigkeit und Stabilität führt. Ohne zusätzliche Vibrationsisolierungsmessungen liefert es hochholbare und zuverlässige Messungen in anspruchsvollen Anwendungen wie der optischen Kalibrierung der Lithographiemaschine, der UV -Mikromachinierung und biochemischen Tests. Der Plug-and-Play-Betrieb sorgt für den einfachen Betrieb und die Wartung.

 

BojiongFIS4 UV Wavefront Sensor 200-400nm Parameter (Spezifikation)

Lichtquelle

Kontinuierlicher Laser, gepulster Laser -LED; Halogenlampe und andere breiteSpektrum Lichtquellen

Wellenlängenbereich

200 ~400nm

Zielgröße

13.3mm ×13.3mm

Räumliche Auflösung

26 mm

Phasenausgangsauflösung

512×512

Absolute Genauigkeit

10nmrms

Phasenauflösung

≤ 2nmrms

Dynamikbereich

90mm

Probenrate

32fps

Echtzeitverarbeitungsgeschwindigkeit

5HzBei voller Lösung

Schnittstellentyp

USB3.0

Größe

70mm × 46.5mm ×68.5mm

Gewicht

Um240g

Kühlmethode

Keiner

 

BojiongFIS4 UV Wavefront Sensor 200-400nm Funktion und Anwendung

Seit 2006 hat das Team von Professor Yang Yongying an der Zhejiang University 17 Jahre für die Entwicklung der Weitspektrum FIS4-Serie gewidmetWellenfrontsensorenbasierend auf einer Common-Path-Interferometrie-Architektur und einer Rekonstruktionsalgorithmen in Echtzeit. Die Sensoren bieten die folgenden Schlüsselmerkmale an:

· Keine optische Schwingungsisolierung erforderlich, um eine starke Umweltanpassungsfähigkeit zu gewährleisten

· Bis zu 2nm RMS -Phasenauflösung für eine außergewöhnliche Genauigkeit

· Ein einzelner optischer Pfaddesign beseitigt die Notwendigkeit von Referenzleuchten und aktiviert den Plug-and-Play-Betrieb

· Kompaktes Design für eine einfache Integration und Bereitstellung

DerFIS4 Ultraviolett-Wellenfrontsensor 200-400 nmist für Anwendungen in der precision optischen Verarbeitung, Verteidigung und Halbleiterherstellung ausgelegt. Mit einer hohen Auflösung von 512 × 512 (262,144) Phasenpunkten, einer breiten spektralen Reaktion von 200–400 nm und 10-Rahmen-Vollzeit-3D-Display mit 3D-Display mit 10-Rahmen bietet es eine sehr zuverlässige Wellenfront-Erfassungslösung für Anwendungen wie optische Systemab Aberrationsmessung, optische Kalibrierung, Schafferoberfläche und optische Schalzanalyse.

 

 

BojiongFIS4 UV Wavefront Sensor 200-400nm Anwendung

Laserstrahlwellenfronterkennung

Beispiel für die Aberration Messung in Optische Systeme

Mangel Probe 1 # -114 Gravierte Linien

Zernike -Modus Wavefront -Erfassungsantwort

Beispiel für die Kalibrierung des optischen Systems Messung

Beispiel für die Wellenfrontmessung auf Metasurfaces

 

BojiongFIS4 UV Wavefront Sensor 200-400nm Details

 

Der FIS4 Ultraviolett-Wellenfrontsensor 200-400 nmbasiert auf der patentierten Technologie der zufällig codierten Vierwellenbeugung und ermöglicht eine echte Einzelstrahl-Selbstinterferenzmessung. Diese Technologie vereinfacht die optische Pfadstruktur erheblich und unterstützt nicht nur Laserlichtquellen, sondern auch Weitspektrum-Lichtquellen wie LEDs und Halogenlampen.FIS4 UV -Wellenfrontsensor hat eine hervorragende Resistenz gegen Umweltinterferenz und kann eine stabile Messung mit nanoskaliger Genauigkeit in normalen experimentellen Umgebungen ohne Vibrationsisolierungsgeräte erreichen. Im Vergleich zu Hartmann -Sensoren basierend auf Mikrolens -Arrays, dieFIS4 UV -Wellenfrontsensor erzielt signifikante Verbesserungen in mehreren Leistungsabmessungen: höhere Phasenpunktauflösung (bis zu 262.144 Punkte), breiterer spektraler Anpassungsbereich, größerer Messdynamikbereich und offensichtliche Vorteile der umfassenden Kostenleistung.

 

Abb.1.Phase Bildgebungsprinzip basierend auf einer lateralen Scher-Interferenz mit vier Wellen unter Verwendung von zufällig codiertem Hybrid-Gitter (REHG)

 

Abb.2.Te-Square-Wellenfront-Rekonstruktion aus Vierwellen-Lateral-Scher-Interferogramm

 

DerFIS4 Wavefront Sinnr hat sich aufgrund ihrer kompakten Struktur, der hohen Umweltrownität, der hervorragenden zeitlichen Auflösung und ihrer starken Kompatibilität mit vorhandenen Mikroskopiesystemen zu einem leistungsstarken und sehr vielseitigen Präzisionswerkzeug für wissenschaftliche Forschung und industrielle Inspektion entwickelt. Zunächst wurde es hauptsächlich in herkömmlichen optischen Workshop -Testszenarien verwendet, einschließlich optischer Element -Oberflächenprofilerstellung, Laserstrahlqualitätsbewertung und adaptiver Optiksystemkorrektur. Heutzutage hat sich sein Anwendungsbereich erheblich erweitert und verschiedene hochmoderne Felder wie die biomedizinische Bildgebung, die Lokalisierung von Nanopartikeln, die Messung der Metasurface-Charakterisierung und sogar die Messung von Temperaturgradienten umfasst.

DerFIS4 -Wellenfrontsensor verfügt über ein stark integriertes Design und ermöglicht eine einfache Integration mit verschiedenen Mikroskopieplattformen für die schnelle Bereitstellung. Die hervorragende Anti-Vibrationsleistung sorgt selbst in rauen Umgebungen, um eine stabile stabile Interferometrie-Messgenauigkeit und Wiederholbarkeit zu erhalten. Das Gerät unterstützt die Einnahme von Wellenfront mit einer Exposition und erfasst zuverlässig schnelle dynamische Prozesse für die vorübergehende Phänomenerforschung. In biomedizinischen Anwendungen hat FIS4 erfolgreich markierungsfreie, hochauflösende Echtzeit-Bildgebung verschiedener lebender Zellen ermöglicht-einschließlich COS-7, HT1080, RPE, CHO, HEK und Neuronenzellen-ein leistungsstarkes Werkzeug für Zelldynamikstudien bereitgestellt.

Zusätzlich dieFIS4 -Wellenfrontsensor supports phase retardation imaging, which can generate high-contrast images of anisotropic biological tissues and subcellular structures, such as collagen fibers and cytoskeletal networks.This technology is not limited to the visible light band but has been extended to phase imaging in the X-ray, mid-wave infrared (MWIR), and long-wave infrared (LWIR) regions, demonstrating its wide adaptability in multispektraler und interdisziplinärer Forschung. In den letzten Jahren,    FIS4 -Wellenfrontsensor hat auch wichtige Anwendungen bei der Erforschung neuer Materialien wie Metasoberflächenmodulation und Charakterisierung der optischen Eigenschaften von zweidimensionalen Materialien gefunden, was die unterschiedlichen Werte und das Potenzial in den Bereichen fortschrittliche Optik und Materialwissenschaft vollständig widerspiegelt.


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